극자외선(EUV·Extreme ultraviolet)은 X-ray와 deep UV(DUV) 스펙트럼 영역 사이인 대략 10nm - 100nm를 아우르는 파장 대역입니다. 최근에는 리소그래피, 나노스케일 이미징 및 분광법과 같이 극자외선 영역을 다루는 수많은 압착 성형 응용 분야를 위해 콤팩트한 극자외선 소스 개발에 많은 노력이 집중되어 왔습니다. 이와 같은 노력의 결과 몇몇 유형의 상용화된 EUV 광원을 이용할 수 있게 되었습니다.
극자외선 광학 제작에는 많은 요건이 필요함에 따라 EUV 광학 제품 양산이 쉽지만은 않지만, 극자외선은 고해상도 이미징과 분광법 및 소재 가공 용도에 다양한 이점을 가져다줌으로써 극자외선 광학 제품 도입에 더 많은 노력을 기울일 필요가 있습니다.
극자외선 이미징
극자외선은 최소 0.5nm의 분해능을 달성할 수 있는 영상 처리 기술 중의 하나인 간섭 회절 이미징(CDI·Coherent Diffractive Imaging)에 이상적으로 사용할 수 있는 파장대입니다. 나노튜브와 나노결정과 같은 초미세 구조체를 분석하는 데 이러한 간섭 회절 이미징이 사용되며, CDI 기술에는 극자외선 빔이 피사체를 향하도록 하기 위해 미러가 이용됩니다.
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그림 1: 전형적인 극자외선 간섭 회절 이미징의 셋업
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그림 2: 나노머시닝은 나노전자공학, 나노의료학 및 바이오 소재를 비롯한 다수의 신흥 응용 분야에서 매우 중요한 부분을 차지합니다.
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극자외선 분광법과 같은 극자외선 응용 분야에 관한 상세 정보는 아래의 더 알아보기 페이지에서 상세히 다루며 극자외선 어플리케이션에 사용되는 광학 부품의 종류 또한 확인할 수 있습니다.
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